پژوهشگران ايراني موفق به ساخت لايه سيليکون نانو متخلخل شدند
خبرگزاري دانشجويان ايران - تهران
سرويس: پايان نامه
پژوهشگران پژوهشگاه مواد و انرژي موفق به ساخت لايه سيليکون نانو متخلخل شدند.
به گزارش سرويس پايان‌نامه خبرگزاري دانشجويان ايران(ايسنا)، مهندس جليل خواجه‌پور، فارغ‌التحصيل کارشناسي ارشد مهندسي مواد- سراميک پژوهشگاه مواد و انرژي كه در قالب پروژه کارشناسي ارشدش با راهنمايي دکتر کاووس فلامکي، عضو هيات علمي پژوهشگاه مواد و انرژي، موفق به ساخت لايه‌اي از سيليکون نانومتخلخل با ضخامت کمتر از 10 ميکرون شده است، خاطرنشان كرد: اين لايه مي‌تواند به‌عنوان پايه به سطوح مختلف بچسبيد و داراي سطحي بسيار بزرگ در حجمي بسيار کوچک (حدود 600 مترمربع در سانتيمتر مکعب) است.
وي با بيان اين كه سيليکون نانومتخلخل، پس از نانولوله‌هاي کربني، پرکاربرد‌ترين نانوساختار است، اظهار كرد: اين مواد به ويژه به سبب سطح بسيار زياد در حجم بسيار کم در صنايع الکترونيک و به لحاظ داشتن خاصيت لومينسانس در ساخت حسگرهاي نوري کاربرد بسياري دارند. در ضمن از اين لايه براي ايجاد پوشش‌هاي ضدبازتاب در پيل‌هاي خورشيدي نيز استفاده مي‌شود.
خواجه پور تصريح كرد: در دنيا از سيليکون متخلخل استفاده‌هاي فراواني مي‌شود که سهم بسياري از آن به صنايع الکترونيک اختصاص دارد. براي مثال، از اين لايه در فن‌آوري ساخت تراشه‌هاي الکترونيکي تحت عناوين SOI و FIPOS استفاده مي‌شود. به‌علاوه مي‌توان به کاربري اين ماده در ساخت نمايشگرهاي تابش ميداني، آينه‌هاي دي‌الکتريک (مانند آيينه براگ)، ساختارهاي فابري- پرو، آشكارساز نوري، ساخت مدارهاي اپتوالکتروني و ... اشاره كرد. در ايران به سبب ضعف بنيادي در صنايع ساخت قطعات الکترونيکي، اين استفاده محدودتر است و شايد مهياترين شاخه عملياتي براي اين لايه‌ها در کشور حسگرها باشند.
وي در تشريح نحوه انجام پروژه و نتايج حاصل اظهار كرد: با استفاده از لايه سيليکون نانومتخلخل ساخته شده در اين پروژه، مي‌توان با صرف هزينه‌هايي بسيار پايين حسگرهايي با دقت بسيار بالا و در غلظت‌هاي بسيار اندک (در حدود ppb) براي اندازه‌گيري عوامل خوني، عوامل شيميايي گياهي، آلودگي‌هاي زيست‌محيطي به دست آورد.
خواجه پور خاطرنشان كرد: مرسوم‌ترين روش ساخت لايه سيليکون نانو متخلخل، استفاده از روش اچ الکتروشيميايي سيليکون در حضور اسيد هيدروفلوريک است. براي اين منظور ابتدا بايد سيليکون از ويفر اصلي به‌اندازه دلخواه بريده شده و در ادامه با استفاده از روش‌هاي متعددي سطح سيليکون آماده‌سازي شود. سپس براي پاک‌سازي سطح سيليکون از آلودگي‌هاي احتمالي، نمونه تحت امواج فراصوت قرار گرفته و در کوره و در حضور اتمسفر خاص تابکاري مي‌شود.
وي تصريح كرد: پس از آماده‌سازي لايه بلافاصله در سلولي که براي همين منظور طراحي و ساخته شده است، در حضور اسيد هيدروفلوريک و مواد سورفکتانت تحت اچ الکتروشيميايي قرار مي‌گيرد. اين لايه به علت سطح بسيار زياد، در برابر هوازدگي بسيار حساس است و بسياري از خواص آن تغيير مي‌کند، ازاينرو لايه را بايد در محيط خنثي نگهداري کرد.
بنابر اعلام ستاد ويژه توسعه فن‌آوري نانو، جزئيات اين پژوهش در مجله Nanotechnology (جلد 19، صفحه295701، سال 2008) چاپ شده است.
isna.ir
